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四探針原理 薄層材料的方塊電阻,簡易導(dǎo)電薄膜方塊電阻測試儀

2025-07-16 4:39:16 器械常識 瀏覽:2次


四探針原理|薄層材料的方塊電阻

1、四探針電阻測試儀測量薄層材料方塊電阻時,需確保探頭邊緣到材料邊緣的距離遠(yuǎn)大于探針間距,一般要求10倍以上。探針頭之間的距離要相等,否則會產(chǎn)生等比例測試誤差。理論上,探針頭與導(dǎo)電薄膜接觸點(diǎn)越小越好。但在實際應(yīng)用中,針狀電極容易破壞被測試的導(dǎo)電薄膜材料,因此通常采用圓形探針頭。薄層材料方阻的計算還依賴于薄層材料的電阻率。

方塊電阻簡介

方塊電阻是衡量薄膜狀導(dǎo)電材料厚度和導(dǎo)電性能的重要指標(biāo)。以下是關(guān)于方塊電阻的簡介:定義與測量:方塊電阻是通過測量一個正方形薄膜的邊到邊的電阻來實現(xiàn)的,不論正方形的邊長如何變化,其方阻都保持不變。測量時,通常選擇正方形的一條邊到對角邊的“之”字形路徑進(jìn)行測量,得到的電阻值即為該薄膜的方塊電阻。

方塊電阻又稱膜電阻,是用于間接表征薄膜膜層、玻璃鍍膜膜層等樣品上的真空鍍膜的熱紅外性能的測量值,該數(shù)值大小可直接換算為熱紅外輻射率。方塊電阻的大小與樣品尺寸無關(guān),其單位為Siements/sq,后增加歐姆/sq表征方式,該單位直接翻譯為方塊電阻或者面電阻,用于膜層測量又稱為膜層電阻。

透明導(dǎo)電玻璃(即在平整度好、透光率高、曲翹度很小的玻璃表面鍍上透明導(dǎo)電膜)要求阻值較低,方塊電阻一般在30Ω以內(nèi),PI(聚酰亞胺、定向材料)、液晶等材料要求純度較高,即電阻率大。ACF(Anisotropic Conductive Film)是一種各向異性導(dǎo)電膜,在垂直方向?qū)щ?,而在水平方向絕緣。

激光多普勒測試,方塊電阻測試,IV測試,CV測試等。

苗莉等[6]采用噴霧熱解法,以NH4F、SnCl22H20為原料,在普通玻璃襯底上制備出了方塊電阻最低達(dá)到2Ω/口,可見光透光率為895%的FTO薄膜,且薄膜晶粒均勻,表面形貌平整致密。Yadav等[7]采用噴霧熱解法,制備了不同厚度的FTO薄膜,最低電阻率達(dá)到91 X 10-4 Ωcm。

多晶硅太陽能電池 多晶硅太陽能電池兼具單晶硅電池的高轉(zhuǎn)換效率和長壽命以及非晶硅薄膜電池的材料制備工藝相對簡化等優(yōu)點(diǎn)的新一代電池,其轉(zhuǎn)換效率一般為12%左右,稍低于單晶硅太陽電池,沒有明顯效率衰退問題,并且有可能在廉價襯底材料上制備,其成本遠(yuǎn)低于單晶硅電池,而效率高于非晶硅薄膜電池。

方塊電阻方塊電阻的測定

方塊電阻的測定方法如下:使用圓銅棒測試法:在導(dǎo)電薄膜的A邊和B邊各放置一個電阻遠(yuǎn)小于導(dǎo)電膜電阻的圓銅棒,確保銅棒表面光潔以實現(xiàn)良好接觸。通過測量兩個銅棒之間的電阻,可以得到導(dǎo)電薄膜材料的方塊電阻值。

測試方法是使用四根光潔的圓銅棒壓在導(dǎo)電薄膜上,其中兩根(BC)的間距設(shè)置為導(dǎo)電薄膜的寬度,其他兩根(AB、CD)的距離一般在10-20毫米即可。接通儀器后,顯示的阻值即為材料的方塊電阻值。

方塊電阻通過測量薄膜或鍍膜層上的電阻值,可以間接反映其熱紅外性能。該數(shù)值大小可以直接換算為熱紅外輻射率,用于評估材料在熱紅外波段的表現(xiàn)。單位與表征:方塊電阻的單位為Siements/sq,后來也常用歐姆/sq來表示。該單位直接翻譯為方塊電阻或者面電阻,特別在膜層測量中又稱為膜層電阻。

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