KLA儀器介紹-納米壓痕-G200/G200X

1、Nano Indenter G200系統(tǒng)是一種高精度的納米級機械測試儀器，專為準確、靈活和易于使用而設計。此系統(tǒng)能夠測量楊氏模量和硬度，覆蓋從納米到毫米的六個數(shù)量級的變形，適用于廣泛的材料研究。

一文了解納米壓痕技術(shù)

納米壓痕技術(shù)，也稱深度敏感壓痕技術(shù)（Depth-Sensing Indentation，DSI），是一種在納米尺度上測量材料力學性質(zhì)的方法。隨著精密、超精密加工技術(shù)的發(fā)展，材料在納米尺度下的力學特性日益受到關(guān)注，而傳統(tǒng)的硬度測量方法因無法適用于納米級或亞微米級的壓痕深度，已無法滿足研究需求。

納米壓痕技術(shù)，也稱深度敏感壓痕技術(shù)，是一種先進的材料力學性能測試方法。以下是對納米壓痕技術(shù)的全面介紹：技術(shù)背景與簡介 傳統(tǒng)的硬度測試方法是通過將特定形狀的壓頭以垂直壓力壓入試樣，然后根據(jù)卸載后的壓痕照片計算壓痕面積，從而得出材料的塑性性質(zhì)。

納米壓痕儀以納米壓痕技術(shù)為基礎，主要組成部分包括控制系統(tǒng)、移動線圈系統(tǒng)、加載系統(tǒng)及壓頭。壓頭一般使用金剛石壓頭，試驗時由微機自動控制，實現(xiàn)閉環(huán)控制。試驗結(jié)果：以單晶鋁為例，納米硬度值隨載荷降低而增大，存在壓痕尺寸效應現(xiàn)象。

納米壓痕技術(shù)是一種針對現(xiàn)代微電子材料科學小型化試樣需求的先進技術(shù)，通過計算機控制的超低載荷測量，實現(xiàn)對微納米材料的精細力學性質(zhì)研究。以下是關(guān)于納米壓痕技術(shù)的詳細解技術(shù)原理：納米壓痕技術(shù)利用計算機控制的超低載荷測量系統(tǒng)，對薄膜、涂層等微納米材料進行精細的力學性質(zhì)研究。

鍍膜靶材噴涂硅鋁:熱噴涂與PVD/CVD工藝詳解,涂層性能全面解讀

1、PVD和CVD技術(shù)可以精確控制涂層的厚度、成分和結(jié)構(gòu)。通過調(diào)節(jié)工藝參數(shù)，如沉積溫度、氣體流量和壓力，可以獲得不同結(jié)構(gòu)和性能的硅鋁涂層。薄膜的致密性、表面粗糙度和界面結(jié)合強度是衡量涂層質(zhì)量的重要指標。優(yōu)質(zhì)的硅鋁涂層應具備高硬度、良好的耐磨性和優(yōu)異的抗氧化性。

2、蒸發(fā)鍍膜是PVD技術(shù)中最早使用的一種方法，通過加熱使鍍膜材料蒸發(fā)，并在基材表面凝結(jié)成膜。常見的蒸發(fā)方法包括熱蒸發(fā)和電子束蒸發(fā)。濺射鍍膜 濺射鍍膜通過離子轟擊將材料從靶材表面濺射出來并沉積到基材表面。這種方法包括直流濺射和射頻濺射。

3、真空鍍膜技術(shù)是一種在真空環(huán)境下，將特定材料鍍層于基底表面的高科技工藝。該技術(shù)能夠在基材表面形成極薄的膜層，這些膜層具有獨特的物理、化學或生物特性，從而顯著提升產(chǎn)品的性能。從基礎原理到先進應用，真空鍍膜技術(shù)，特別是物理氣相沉積（PVD）和化學氣相沉積（CVD）方法，在多個領域發(fā)揮著重要作用。